1.鍍鋅特點(diǎn)：鋅的優(yōu)點(diǎn)是在干燥的空氣中相對穩定，不變色，在水或潮濕的環(huán)境中會(huì )與氧氣或二氧化碳反應形成保護膜。此外，鍍鋅不僅成本低，而且易于加工，其標準電位相對較負。因此，鋅的促成對不銹鋼甚至許多金屬均為陽(yáng)極性鍍層。用途：一般用于大氣或其他相對較好的環(huán)境中，注意不要用作摩擦部件。鍍鎘特點(diǎn)：與海洋性強的大氣和70攝氏度以上的熱水環(huán)境相比，鎘涂層穩定、耐腐蝕，具有良好的潤滑性能。然而，應該注意的是，當鎘熔化時(shí)，有毒氣體會(huì )產(chǎn)生，而且鎘鹽也是有毒的。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類(lèi)廣泛5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽(yáng)能應用行業(yè)概況太陽(yáng)能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽(yáng)能電池。按太陽(yáng)能電池的結構劃分，可分為結晶硅和薄膜太陽(yáng)能電池二大族群。